微型热导检测器μTCD设计与制造:以安捷伦990Mirco GC为例

2025-01-10 09:00
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微型热导检测器(μTCD)是气相色谱仪的关键元器件,主要作用是检测气体的成分和浓度。其工作原理是混合气体通过气道,热导系数发生变化,引起惠斯通电桥中热敏电阻阻值的变化,再将热敏电阻阻值的变化转化成输出电压的变化,从而实现对待测气体成分和浓度检测。

由于μTCD应用场景较少,目前还未出现商业化的国产产品,主要的产品由德国SIEMENS和美国Agilent公司供应。

以安捷伦990Mirco GC为例,其优秀的性能包括好的噪声效应和低的监测限度。


安捷伦990Mirco GC封装产品和原理示意图


μTCD中,热敏电阻的桥结构是器件设计的关键指标。热敏电阻的材料、排布和尺寸影响桥结构的热学和力学性能,决定了器件的灵敏度和稳定性。对于单个热敏电阻设计,我们通过内部的验证数据,采用200nm的Pt作为热敏电阻,方块电阻为0.92Ω/□,设计电阻总长度为1091μm,形成锯齿状电极结构。膜层设计采用1.4μm 厚度的SiNx/SiO2复合膜作为支撑层,通过应力组合,抵消本征应力和热应力带来的力学稳定性影响。

采用有限元仿真软件COMSOL对热敏电阻的力学和热学性能进行仿真,在绘图软件中建立模型,将模型导入仿真软件,设置几何参数和材料参数,选择电流、固体传热和固体力学物理场,设置边界条件,设置多物理场接口,划分网格,进行计算。由启芯微的仿真结果,加热到200°C,最大变形为1.13μm。对于气流通道的传热的仿真与优化,详细请与启芯微纳沟通了解。


热敏电阻层仿真设计

版图设计中,共包含4张版图,第一张版图为热敏电阻图形化,第二张版图为焊盘及引线图形化,第三张版图为湿法释放孔图形化,第四张版图为玻璃槽图形化。其中第一张版图极为关键,热敏电阻的图形化的方法包括沉积刻蚀法和剥离法(lift-off),本文设计中采用后者,光刻版为暗场,优势在于减少刻蚀Pt的工艺节省成本。


版图设计


工艺设计中,共8个步骤:

(a)厚度为500μm、晶向(100)单晶硅衬底清洗;

b)支撑层的制备,热氧化沉积900nm厚度SiO2LPCVD沉积500nm厚度SiNx

c)热敏电阻制备,采用lift-off工艺,沉积厚度为200nm的TiPt薄膜;

(d)焊盘及引线的制备,采用采用lift-off工艺,沉积厚度为300nm的TiAu薄膜;

(e)释放孔的制备,采用RIE刻蚀释放孔位置SiNx/SiO2复合膜,厚度为1.4μm;

(f)采用KOH进行硅的各向异性腐蚀,实现热敏电阻的释放,刻蚀深度约100μm;

(g)厚度为500μm的玻璃衬底进行湿法刻蚀或者喷砂工艺,实现100μm深度的槽结构;

(h)将玻璃衬底与硅衬底进行阳极键合,完成工艺。


工艺设计


样品剖面SEM


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