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光刻版制造


定义：光刻版版 (Photomask)，又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微电子、集成光电子制造中光刻工艺所使用的图形母版， 由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过曝光将图形转印到品圆上。

工艺能力


· 材质

苏打玻璃、石英玻璃、菲林板等

· 尺寸

多种尺寸和规格的IC行业专用光刻掩模版，包括2”，3”、4”、5”、6”、7” 、 8”、9” inch的石英/苏打基材光刻板、6025步进式光刻板等，制作精度可达0.1um


案例展示